Area di lavoro di Classe ISO5 per la manipolazione di campioni in un ambiente controllato. Lo spazio è equipaggiato con strumenti per processi di fotolitografia, tra cui cappa aspirante, spin-coater, lampada UV e computer.

Responsabile scientifico: Davide Ferraro 
Responsabile della didattica e della ricerca in laboratorio (RDRL): Davide Ferraro 
Preposto: Davide Ferraro 

Il sistema µMLA è uno strumento di litografia UV senza maschera, progettato per proiettare una maschera virtuale su un substrato solitamente rivestito con un resist chimico. Consente esposizioni a 375 nm con una risoluzione di 1 µm.

Responsabile scientifico: Davide De Salvador 
Responsabile della didattica e della ricerca in laboratorio (RDRL): Davide Ferraro 
Preposto: Davide Ferraro , Gianluca Ruffato, Francesco Sgarbossa 

Lo strumento (Femto, Diener Electronic) consente l’applicazione di un plasma a ossigeno per la pulizia dei campioni o per trattamenti delle superfici.

Responsabile scientifico: Giampaolo Mistura 
Responsabile della didattica e della ricerca in laboratorio (RDRL): Davide Ferraro 
Preposto: Davide Ferraro