Sistema di deposizione magnetron sputtering confocale, dotato di due torce a radiofrequenza (RF) e una torcia DC per target da 2’’, con controllo remoto motorizzato della movimentazione degli shutter e del portacampioni.

Responsabile scientifico: Tiziana Cesca
Responsabile della didattica e della ricerca in laboratorio (RDRL): Tiziana Cesca :
Preposto: Carlo Scian 

Evaporatore termico per la deposizione di film sottili metallici con movimentatori motorizzati a due assi (rotazione e tilt) per il controllo direzionale.

Responsabile scientifico: Giovanni Mattei 
Responsabile della didattica e della ricerca in laboratorio (RDRL): Giovanni Mattei 
Preposto: Carlo Scian 

Sistema per reactive ion etching con diversi gas reattivi (come fluorine e clorine) per l’erosione controllata di diversi materiali (SiO2, Al2O3, Si, polimeri,…)

Responsabile scientifico: Giovanni Mattei 
Responsabile della didattica e della ricerca in laboratorio (RDRL): Giovanni Mattei 
Preposto: Carlo Scian 

Lo strumento consente la fabbricazione di film di ossidi sottile (tipicamente 1-50 nm) omogenei e conformali ad una superficie anche nanostrutturata. Quattro ingressi indipendenti per i precursori consentono di realizzare film multielemento e varie geometrie multistrato. Il processo di deposizione avviene a temperatura controllata (fino a 300°C) ed è assistito da ozono. E’ possibile usare precursori con tensione di vapore anche molto bassa in condizioni di lavoro (fino a 0.01 Torr).

Responsabile scientifico: Chiara Maurizio 
Responsabile della didattica e della ricerca in laboratorio (RDRL): Chiara Maurizio
Preposto: Carlo Scian 

Forno tubolare per trattamenti termici (fino a 1200 °C) in flusso di gas (inerte o ossidante).

Responsabile scientifico: Tiziana Cesca 
Responsabile della didattica e della ricerca in laboratorio (RDRL): Tiziana Cesca 
Preposto: Carlo Scian 

Il forno tubolare F-VS 100-500/13 a zona singola opera a una temperatura massima di 1350 °C.  Include un regolatore di temperatura programmabile. E’ configurato per poter condurre trattamenti in atmosfera controllata (inerte, ossidante e riducente) e in vuoto.

Responsabile scientifico: Cinzia Sada 
Responsabile della didattica e della ricerca in laboratorio (RDRL): Cinzia Sada 
Preposto: Carlo Scian 

Il forno tubolare a zona singola opera a una temperatura massima di 1350 °C.  Include un regolatore di temperatura programmabile con una termocoppia di controllo di tipo S di alta qualità. E’ configurato per poter condurre trattamenti in atmosfera controllata (inerte, ossidante e riducente).

Responsabile scientifico: Cinzia Sada 
Responsabile della didattica e della ricerca in laboratorio (RDRL): Cinzia Sada 
Preposto: Carlo Scian