
LAB022 – Spettrometria di Massa di Ioni Secondari
SEDE: Edificio Galilei
STANZA: 022
Spettrometria di Massa di Ioni Secondari

Spettrometro di Massa di Ioni Secondari CAMECA IMS-4f. Lo strumento consente di eseguire misure di profili di concentrazione chimica in funzione della profondità in diversi materiali (semiconduttori, metalli, isolanti) con risoluzione in profondità fino a 10 nm e sensibilità fino al ppb. Dotazioni principali: sorgenti ioniche O2+ e Cs+, sorgente a fascio elettronico per la compensazione della carica, portacampione tiltato per ridurre l’energia del fascio di O2+ fino a 650 eV, stage per eseguire misure a freddo per ridurre effetti di diffusione anomala.
Responsabile scientifico: Enrico Napolitani
Responsabile della didattica e della ricerca in laboratorio (RDRL): Enrico Napolitani
Preposto: Enrico Napolitani
Profilometro a stilo

Profilometro a stilo KLA-Tencor P17. Lo strumento consente di eseguire misure di morfologia superficiale 2D/3D. Raggio della punta 2µm. Linearità verticale: max tra ±1 nm e ±0.5%. Range massimo di scansione: 200 mm laterale, 1mm verticale.
Responsabile scientifico: Enrico Napolitani
Responsabile della didattica e della ricerca in laboratorio (RDRL): Enrico Napolitani
Preposto: Enrico Napolitani
Van der Pauw-Hall

Strumento di Misura Van der Pauw-Hall MMR Technologies. Lo strumento consente di eseguire misure di resistenza di strato, densità areale, tipo e mobilità dei portatori in funzione della temperatura (80-730 K).
Responsabile scientifico: Enrico Napolitani
Responsabile della didattica e della ricerca in laboratorio (RDRL): Enrico Napolitani
Preposto: Enrico Napolitani


